临沧标准气体

便携式标准气体稀释装置（以下简称装置）的外型及特点
MF-4C便携式标准气体稀释装置，是由从事近40余年气体标准物质研究、气体计量器具国家计量技术法规制修订、并在本行业有丰富经验的*构思、选材及参数设置和定量；由从事多年仪器仪表、计算机软件研发的*设计和装配。研发出的装置稳定性、重复性及线性，配制的标准气体准确、可靠，易于量值传递和溯源，操作快捷,使用方便。

是一种无色、无臭、无毒、不燃的惰性气体，它的分子量为146.07，在20℃和0.1 MPa时密度为6.1kg/m3，约为空气密度的5倍。在常温常压下为气态，其临界温度为45.6℃，三相点温度为-50.8℃，常压下升华点温度为-63.8℃。分子结构呈八面体排布，键合距离小、键合能高，因此其稳定性很高，在温度不**过180℃时，它与电气结构材料的相容性和相似。

标准气体主要用途：
1、该装置为计量、环保、石油化工、医药卫生、疾控中心、煤矿等多行业检定气体分析仪、可燃气、有毒有害气体等仪器建立计量标准而提供标准装置，为开展检定、校准和测试上述仪器而配制标准气体；
2、用于考察各种气体测量仪、测报仪及气体传感器的多种性能而配制标准气体；交直流两种供电模式，体积小巧，室内野外均可使用；
3、用于能源部门检漏仪、纯度仪的检定及性能评价而配制标准气体；
4、用于煤矿矿井测试仪、和氧等测试仪的检定及性能评价而配制标准气体，对其进行校准检定；
5、用于各种气体分析方法的参比标准；

气体工业名词术语（标准气体、高纯气体、特种气体）
1.特种气体(Specialtygases)：指那些在特定领域中应用的,对气体有特殊要求的纯气、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。特种气体门类繁多,通常可区分为电子气体、标准气、环保气、医用气、焊接气、杀菌气等,广泛用于电子、电力、石油化工、采矿、钢铁、有色金属冶炼、热力工程、生化、环境监测、医学研究及诊断、食品保鲜等领域。
2.标准气体(Standardgases)：标准气体属于标准物质。标准物质是高度均匀的、良好稳定和量值)准确的测定标准,它们具有复现、保存和传递量值的基本作用,在物理、化学、生物与工程测量领域中用于校准测量仪器和测量过程,评价测量方法的准确度和检测实验室的检测能力,确定材料或产品的特性量值,进行量值仲裁等。大型厂、合成氨厂及其它石化企业,在装置开车、停车和正常生产过程中需要几十种纯气和几百种多组分标准混合气,用来校准、定标生产过程中使用的在线分析仪器和分析原料及产品质量的仪器。标准气还可用于环境监测,有毒的**物测量,汽车排放气测试,天然气BTU测量,液化校正标准,**临界流体工艺等。标准气视气体组分数区分为二元、和多元标准气体;配气准度要求以配气允差和分析允差来表征;比较通用的有SE2MI配气允差标准,但各公司均有企业标准。组分的较低浓度为10-6级,组分数可多达20余种。配制方法可采用重量法,然后用色谱分析校核,也可按标准传递程序进行传递。
3、电子气体(Electronicgases)：半导体工业用的气体统称电子气体。按其门类可分为纯气、高纯4_6m+p-_4气和半导体特殊材料气体三大类。特殊材料气体主要用于外延、掺杂和蚀刻工艺；高纯气体主要用作稀释气和运载气。电子气体是特种气体的一个重要分支。电子气体按纯度等级和使用场合，可分为电子级、LSI(大规模集成电路)级、VLSI(**大规模集成电路)级和ULSI(特大规模集成电路)级。
4.外延气体(Cpitaxialgases)：在仔细选择的衬底上采用化学气相淀积(CVD)的方法生长一层或多层材料所用气体称为外延气体。硅外延气体有4种,即、二氯二硅、三氯硅和,主要用于外延硅淀积,多晶硅淀积,淀积氧化硅膜,淀积氮化硅膜,太阳电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积。外延生长是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。此外延层的电阻率往往与衬底不同。
5.蚀刻气体(Etchinggases)：蚀刻就是把基片上无光刻胶掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金属膜等蚀刻掉,而使有光刻胶掩蔽的区域保存下来,这样便在基片表面得到所需要的成像图形。蚀刻的基本要求是,图形边缘整齐,线条清晰,图形变换差小,且对光刻胶膜及其掩蔽保护的表面无损伤和钻蚀。蚀刻方式有湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法蚀刻所用气体称蚀刻气体,通常多为氟化物气体,例如四氟化碳、、、、三氟等。干法蚀刻由于蚀刻方向性强、工艺控制精确、方便、无脱胶现象、无基片损伤和沾污,所以其应用范围日益广泛。