企业信息

    济宁协力特种气体有限公司

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  • 公司认证: 营业执照已认证
  • 企业性质:有限责任公司
    成立时间:2008
  • 公司地址: 山东省 济宁 南张镇刘前村
  • 姓名: 殷亚洲
  • 认证: 手机已认证 身份证已认证 微信已绑定

    玉溪标准气体

  • 所属行业:能源 气体 特殊/专业气体
  • 发布日期:2024-11-01
  • 阅读量:200
  • 价格:21.00 元/瓶 起
  • 产品规格:不限
  • 产品数量:9999.00 瓶
  • 包装说明:不限
  • 发货地址:山东济宁  
  • 关键词:玉溪标准气体

    玉溪标准气体详细内容

    产品分类:
    中文名:
    化学式:SF6
    纯度:99.99%(4N)
    包装:40L
    净重:50kg
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    气体是一种无色、无臭、无毒和无腐蚀性的化合物。在常温常态下呈气体,为不燃体,是化学稳定性较好的非金属氧化物。由于具有优良的化学热稳定性,在保证纯度的情况下,500度温度下也不会被分解。由具有优良的绝缘性和减弧能力,即使在电弧下发生瞬间分解、电离,但在电弧削减后也能很*的回复原有的稳定状态,故利用他的高度化学稳定性和出色的电器绝缘特性,广泛的利用电气工业和**高压绝缘材料。此外它还具有传热系数大,冷却效果好的特点。
    气体广泛用于高压,中压电气设备的绝缘材料和减弧介质;金属冶炼制造工艺的防氧化剂,气象示踪实验和示踪剂,制冷工艺的制冷剂和热载体。在医疗上用于X一射线装置的绝缘体。还可用于制造单晶硅以及基础理论科学研究等
    玉溪标准气体
    装置前面板上的转子流量计与配气系统无关,只是用于控制被检仪器或分析方法所需要的流量。面板中间是彩色液晶显示及触摸屏,不需任何人工计算,只需通过彩色触摸屏简单输入,便可完成配气工作。该装置机身小巧轻便,便于携带。直流交流两用电源,长时间待机,便于室外现场操作。
    玉溪标准气体
    是一种无色、无臭、无毒、不燃的惰性气体,它的分子量为146.07,在20℃和0.1 MPa时密度为6.1kg/m3,约为空气密度的5倍。在常温常压下为气态,其临界温度为45.6℃,三相点温度为-50.8℃,常压下升华点温度为-63.8℃。分子结构呈八面体排布,键合距离小、键合能高,因此其稳定性很高,在温度不**过180℃时,它与电气结构材料的相容性和相似。
    玉溪标准气体
    气体工业名词术语(标准气体、高纯气体、特种气体)
    1.特种气体(Specialtygases):指那些在特定领域中应用的,对气体有特殊要求的纯气、高纯气或由高纯单质气体配制的二元或多元混合气。特种气体门类繁多,通常可区分为电子气体、标准气、环保气、医用气、焊接气、杀菌气等,广泛用于电子、电力、石油化工、采矿、钢铁、有色金属冶炼、热力工程、生化、环境监测、医学研究及诊断、食品保鲜等领域。
    2.标准气体(Standardgases):标准气体属于标准物质。标准物质是高度均匀的、良好稳定和量值)准确的测定标准,它们具有复现、保存和传递量值的基本作用,在物理、化学、生物与工程测量领域中用于校准测量仪器和测量过程,评价测量方法的准确度和检测实验室的检测能力,确定材料或产品的特性量值,进行量值仲裁等。大型厂、合成氨厂及其它石化企业,在装置开车、停车和正常生产过程中需要几十种纯气和几百种多组分标准混合气,用来校准、定标生产过程中使用的在线分析仪器和分析原料及产品质量的仪器。标准气还可用于环境监测,有毒的**物测量,汽车排放气测试,天然气BTU测量,液化校正标准,**临界流体工艺等。标准气视气体组分数区分为二元、和多元标准气体;配气准度要求以配气允差和分析允差来表征;比较通用的有SE2MI配气允差标准,但各公司均有企业标准。组分的较低浓度为10-6级,组分数可多达20余种。配制方法可采用重量法,然后用色谱分析校核,也可按标准传递程序进行传递。
    3、电子气体(Electronicgases):半导体工业用的气体统称电子气体。按其门类可分为纯气、高纯4_6m+p-_4气和半导体特殊材料气体三大类。特殊材料气体主要用于外延、掺杂和蚀刻工艺;高纯气体主要用作稀释气和运载气。电子气体是特种气体的一个重要分支。电子气体按纯度等级和使用场合,可分为电子级、LSI(大规模集成电路)级、VLSI(**大规模集成电路)级和ULSI(特大规模集成电路)级。
    4.外延气体(Cpitaxialgases):在仔细选择的衬底上采用化学气相淀积(CVD)的方法生长一层或多层材料所用气体称为外延气体。硅外延气体有4种,即、二氯二硅、三氯硅和,主要用于外延硅淀积,多晶硅淀积,淀积氧化硅膜,淀积氮化硅膜,太阳电池和其他光感受器的非晶硅膜淀积。外延生长是一种单晶材料淀积并生长在衬底表面上的过程。此外延层的电阻率往往与衬底不同。
    5.蚀刻气体(Etchinggases):蚀刻就是把基片上无光刻胶掩蔽的加工表面如氧化硅膜、金属膜等蚀刻掉,而使有光刻胶掩蔽的区域保存下来,这样便在基片表面得到所需要的成像图形。蚀刻的基本要求是,图形边缘整齐,线条清晰,图形变换差小,且对光刻胶膜及其掩蔽保护的表面无损伤和钻蚀。蚀刻方式有湿法化学蚀刻和干法化学蚀刻。干法蚀刻所用气体称蚀刻气体,通常多为氟化物气体,例如四氟化碳、、、、三氟等。干法蚀刻由于蚀刻方向性强、工艺控制精确、方便、无脱胶现象、无基片损伤和沾污,所以其应用范围日益广泛。

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