是一种无色、无臭、无毒、不燃的惰性气体,它的分子量为146.07,在20℃和0.1?MPa时密度为6.1kg/m3,约为空气密度的5倍。在常温常压下为气态,其临界温度为45.6℃,三相点温度为-50.8℃,常压下升华点温度为-63.8℃。分子结构呈八面体排布,键合距离小、键合能高,因此其稳定性很高,在温度不**过180℃时,它与电气结构材料的相容性和相似。?
用途:1、新一代**高压绝缘介质材料。2、可用于有色金属的冶炼和铸造工艺,也可用于铝及其合金熔融物的脱气和纯化。3、主要用于高压开关中灭弧,在大容量变压器和高压电缆中作为绝缘材料使用。4、用作电子设备和雷达波导的气体绝缘体。
泄漏应急处理
应急处理:*撤离泄漏污染区人员至上风处,并进行隔离,严格限制出入。建议应急处理人员戴自给正压式呼吸器,穿一般作业工作服。尽可能切断泄漏源。合理通风,加速扩散。如有可能,即时使用。漏气容器要妥善处理,修复、检验后再用。
气体厂家直供,一手货源,欢迎采购
安全理念:特种气体属于危险化学品,在生产、运输和使用的过程中都有潜在的安全风险,菲利尔致力于从技术上、组织上和管理上采取有力措施,为客户提供安全周到的产品和服务。
全过程安全管理:从产品设计、原料采购、生产控制、包装储运、客户培训等多个环节,运用安全管理原理、方法和手段,解决和消除各种不安全因素
选择我们四大理由
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SF6?99.995%高纯sf6?量大从优?(sf6)
纯度等级:????高纯?电子级
纯度值:????99.995%-99.999%
包装规格:????10L?40L
起批量:????1
气体名称:
分子式:SF6
其他纯度:99.995%、电子级99.999%?
规格容器:????40L/4L/8L/10L钢瓶
钢瓶阀门:????QF-2:工作压力15MPA
高压钢瓶配制标准气体应注意的事项?
?在使用高压钢瓶配制时,必须严格执行高压气瓶使用规程:
1、禁止敲击、碰撞气瓶,气瓶应可靠地固定在支架上,以防碰倒;
2、开启高压气瓶时,操作者必须站在气瓶出气口的侧面,气瓶应直立,然后缓慢旋开瓶阀;
3、高压气瓶上的减压阀要**,安装时螺扣要拧紧;
4、开关高压气瓶瓶阀时,应用手或专门扳手,不得随便使用凿子、钳子等工具硬扳,以防损坏瓶阀;
5、氧气瓶及其**工具严禁与油类接触,氧气瓶附近也不得有油类存在,操作者必须将手洗干净,**不能穿用沾有油脂的工作服、手套及油手操作,以防万一氧气冲出后发生燃烧甚至爆炸;
6、氧气瓶、可燃性气医疗事故与明火距离应不小于10M;有困难时,应有可靠的隔热防护措施,但不得小于5M;
7、高压气医疗事故应避免曝晒及强烈振动,远离火源;
8、使用装有易燃、易爆、有毒气体的气瓶工作地点,应保证良好的通风换气。
医疗事故内气体不得全部用尽,剩余残压即余压(关于剩余残压的说明。)气瓶内储存的气体品种很多,但不管是哪一种气瓶,在使用中都必须留有一定压力的余气,不得用尽,以防其他气体进去。
的性质:
1、性状:无色无味气体。
2、熔点(℃):-51
3、沸点(℃):-64(升华)
4、相对密度(水=1):1.67(-100℃)
5、相对蒸气密度(空气=1):6.602
6、饱和蒸气压(kPa):2450(25℃)
7、临界温度(℃):45.6
8、临界压力(MPa):3.76
9、辛醇/水分配系数:1.68
10、溶解性:微溶于水,溶于、乙醚
11、汽化热(Kg/mol):23.59(升华热)
12、熔化热(Kg/mol):5.82
13、黏度(mPa·s,气体):0.01576
14、黏度(mPa·s,液体):0.277
15、折射率(气体):1.000783
包装方法:钢质气瓶
运输注意事项:铁路运输时需经生物试验证明合格,根据合格证托运。采用刚瓶运输时必须戴好钢瓶上的安全帽。钢瓶一般平放,并应将瓶口朝同一方向,不可交叉;高度不得**过车辆的防护栏板,并用三角木垫卡牢,防止滚动。严禁与易燃物或可燃物、氧化剂等混装混运。夏季应早晚运输,防止日光曝晒。铁路运输时要禁止溜放。
产品分类:??
中文名:
化学式:SF6
纯度:99.99%(4N)
包装:40L
净重:50kg
价格找厂家!
?气体是一种无色、无臭、无毒和无腐蚀性的化合物。在常温常态下呈气体,为不燃体,是化学稳定性较好的非金属氧化物。由于具有优良的化学热稳定性,在保证纯度的情况下,500度温度下也不会被分解。由具有优良的绝缘性和减弧能力,即使在电弧下发生瞬间分解、电离,但在电弧削减后也能很*的回复原有的稳定状态,故利用他的高度化学稳定性和出色的电器绝缘特性,广泛的利用电气工业和**高压绝缘材料。此外它还具有传热系数大,冷却效果好的特点。
气体广泛用于高压,中压电气设备的绝缘材料和减弧介质;金属冶炼制造工艺的防氧化剂,气象示踪实验和示踪剂,制冷工艺的制冷剂和热载体。在医疗上用于X一射线装置的绝缘体。还可用于制造单晶硅以及基础理论科学研究等